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對(duì)上述缺陷化驗(yàn)分析，主要是氧化錫，硫化錫等錫缺陷，初步判斷為錫槽氣氛不好，較多的外界氧氣滲入錫槽，以及二氧化硫處理不好，造成硫化物進(jìn)入，污染了錫槽。

2 錫缺陷產(chǎn)生的原因

浮法玻璃錫槽的作用就是把熔窯熔化好的玻璃液在一定的溫度制度下，通過(guò)主傳動(dòng)和拉邊機(jī)的外力作用，形成一定寬度厚度的玻璃，經(jīng)過(guò)成形冷卻，通過(guò)過(guò)渡輥臺(tái)送入退火窯。

浮法工藝中的錫槽使用金屬錫液作為浮托介質(zhì)，氮?dú)夂蜌錃饣旌蠚怏w作為保護(hù)氣體。在錫槽這個(gè)相對(duì)密閉的環(huán)境中，發(fā)生著許多復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，這些化學(xué)反應(yīng)中的一些產(chǎn)物將帶來(lái)很多玻璃缺陷，影響產(chǎn)品質(zhì)量。

浮法玻璃錫槽環(huán)境和結(jié)構(gòu)特點(diǎn)決定了錫缺陷產(chǎn)生是不可避免的，在實(shí)際生產(chǎn)中只能有效控制，而不能消除。在錫槽所有復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)中，我們必須了解“氧循環(huán)”、“硫循環(huán)”及氮?dú)浔Ｗo(hù)氣體系統(tǒng)，才能較好解決該缺陷。

（1）氧循環(huán)

該循環(huán)直接影響錫槽良好氣氛的保持和錫液純度的保護(hù)。錫槽中氧的來(lái)源主要是因?yàn)殄a槽外殼結(jié)構(gòu)上的孔隙直接與錫槽相通而滲入的，還有保護(hù)氣體中微量的氧氣，相對(duì)來(lái)說(shuō)后者的量是微不足道的。圖1是錫槽氧循環(huán)的示意圖。

圖1 錫槽氧循環(huán)示意圖

錫槽氣氛中含錫物主要為氣態(tài)SnO，SnO揮發(fā)物散發(fā)到整個(gè)氣氛中，并在錫槽內(nèi)部結(jié)構(gòu)（耐火材料、錫槽頂蓋、電加熱元件、冷卻器等）上較冷部位形成錫液滴和錫石凝結(jié)物，當(dāng)其凝結(jié)到一定程度或在氣氛波動(dòng)時(shí)就會(huì)掉落到玻璃帶上，形成光畸變點(diǎn)或錫石缺陷以及麻點(diǎn)等。

因此，錫槽中氧含量的高低直接決定錫槽氣氛的好壞。錫液中也存在氧，1050℃時(shí)，氧的溶解度為900×10^-6（900ppm），600℃時(shí)，溶解度約為10×10^-6（10ppm）。表1給出了不同溫度時(shí)氧在錫液中的溶解度。

從表1可知，在熱段可以溶解較多的氧，隨著錫液在錫槽中從熱段到冷段的流動(dòng)，氧不斷地被釋放，因此在錫槽尾端極易產(chǎn)生氧化錫沉淀物及懸浮物。當(dāng)沉淀物附著到玻璃帶下時(shí)，就會(huì)形成沾錫、劃傷、霧點(diǎn)等缺陷。而空間的懸浮物因冷凝或氣氛波動(dòng)滴落就會(huì)造成板上光畸變點(diǎn)及錫石等缺陷。

表1氧在錫液中的溶解度

（2）硫循環(huán)錫槽中硫的主要來(lái)源是：①玻璃液中硫酸鈉成分或火焰空間中帶來(lái)的硫化物熔融玻璃液中的硫一部分通過(guò)揮發(fā)到錫槽氣氛中，一部分通過(guò)接觸錫液萃取到錫液中；②使用二氧化硫后處理技術(shù)所帶來(lái)的，進(jìn)入錫槽后發(fā)生一系列反應(yīng)污染錫槽。硫循環(huán)示意圖見(jiàn)圖2。

硫化物一般以SnS、Sn₂S存在，和氧化錫一起形成污染物，揮發(fā)凝結(jié)在錫槽內(nèi)部表面。SnS的揮發(fā)隨溫度的升高而增加，所以在錫槽高溫段內(nèi)部結(jié)構(gòu)表面能形成大量的凝結(jié)物，掉落玻璃帶上，造成玻璃缺陷。SnS隨溫度揮發(fā)壓力見(jiàn)表2。

表2SnS的揮發(fā)性

（3）氫氣在錫槽中的作用

氫氣的主要作用就是與氧氣反應(yīng)形成水（以蒸汽形式存在），從而避免錫槽氣氛中游離態(tài)的氧存在，以及避免更多的氧溶解到錫液中去，目前國(guó)內(nèi)錫槽可以通過(guò)測(cè)量露點(diǎn)來(lái)檢測(cè)氧的含量，露點(diǎn)越低表明水蒸氣含量越低。一般要求露點(diǎn)≤-60 ℃。

氫氣還能與氧化錫、硫化錫發(fā)生反應(yīng)，還原成單質(zhì)錫，從而達(dá)到保護(hù)錫液的作用：

SnO+H2=Sn+H2O；

SnS+H2=Sn+H2S。

H2S具有較強(qiáng)還原性，繼續(xù)和SnO、SnS單質(zhì)氧反應(yīng)還原出單質(zhì)錫和消除單質(zhì)氧。

因此，控制保護(hù)氣體的氫氣含量可以有效地保護(hù)錫槽氣氛，實(shí)際生產(chǎn)中我們加入的氫氣量是平衡氧和硫反應(yīng)所需要量的若干倍。如果錫槽容易產(chǎn)生錫渣，很可能就是保護(hù)氣體量不足、密封不好或氫含量偏低。

（1）解決措施

雖然氧和硫?qū)﹀a槽的污染不可避免，但我們可以有效控制，盡可能地減少玻璃缺陷的產(chǎn)生。

根據(jù)實(shí)際情況，玻璃上表面不固定地出現(xiàn)光畸變點(diǎn)、麻點(diǎn)、錫石，板下時(shí)有沾錫、劃傷、霧點(diǎn)出現(xiàn)的情況，就能準(zhǔn)確地判斷錫槽內(nèi)部氣氛中氧和硫含量偏高。因此可從以下幾個(gè)方面解決:

增加保護(hù)氣體的流量（從2 000 m³/h增加到2150 m³/h），增加錫槽內(nèi)部壓力，減少外界空氣的滲入。

②加大保護(hù)氣體中氫氣含量（H₂∶N₂從3.5增加到4.5）來(lái)加強(qiáng)氫氧反應(yīng)和氫氣的還原作用。

③為了減少高溫區(qū)錫化物及硫化物形成、揮發(fā)、凝結(jié)，根據(jù)氧在不同溫度下的溶解度和硫在不同溫度下的揮發(fā)性，重新合理調(diào)整保護(hù)氣體在各區(qū)的量。

提高高溫區(qū)和低溫區(qū)的保護(hù)氣體分配比例，調(diào)整后槽內(nèi)保護(hù)氣體壓力為：高溫區(qū) 25 Pa；中溫區(qū) 21Pa；低溫區(qū) 28 Pa�？捎行У馗纳棋a槽內(nèi)部氣氛。

④更換密封料，使用更好的低透氣性密封料，并從密封操作細(xì)節(jié)下工夫，做到密封后整潔，光滑，無(wú)微裂紋，并制定了相關(guān)的密封操作手冊(cè)指導(dǎo)作業(yè)。

⑤對(duì)流道結(jié)構(gòu)做少量輔助改造，減少空氣進(jìn)入的可能性。

⑥在錫槽高溫端兩邊安裝氣體導(dǎo)流裝置，以改善錫槽內(nèi)氣氛循環(huán)，引導(dǎo)氣氛中飽和錫蒸汽和氧化錫，硫化錫蒸汽從該處排出，減少玻璃缺陷產(chǎn)生。

⑦對(duì)SO₂后處理設(shè)備進(jìn)行改造，讓SO₂充分燃燒，達(dá)到使用更少的流量也能實(shí)現(xiàn)同樣的后處理效果，減少對(duì)錫槽的污染。

⑧購(gòu)買安裝扒渣機(jī)，避免錫渣長(zhǎng)時(shí)間停留在出口段錫液面上影響板下質(zhì)量。（2）處理后的效果通過(guò)逐步實(shí)施上述方案，錫槽內(nèi)部氣氛得到了有效改善，玻璃錫缺陷明顯減少，并隨著時(shí)間的推移（約2周），錫槽內(nèi)部氣氛逐步達(dá)到了良好的生產(chǎn)狀況，錫缺陷基本消除。